ASML Holding N.V.High-NA EUV production milestone and plans for broader adoption
อินเทลและเอเอสเอ็มแอลประกาศว่าได้ประมวลผลเวเฟอร์มากกว่าหนึ่งล้านแผ่นโดยใช้ลิโธกราฟีไฮ-นา อียูวี ซึ่งถือเป็นก้าวสำคัญสู่การผลิตเชิงพาณิชย์ เทคโนโลยีนี้ถูกใช้สำหรับเลเยอร์บางส่วนของโปรเซสเซอร์ Core Ultra Series 3 ของอินเทล ซึ่งมีชื่อรหัสว่าแพนเธอร์เลค ที่ผลิตบนกระบวนการอินเทล 18A และทั้งสองบริษัทรายงานว่าประสิทธิภาพเป็นไปตามหรือดีกว่าเลเยอร์ที่เทียบเท่าซึ่งสร้างด้วยแพลตฟอร์ม NXE เอเอสเอ็มแอลวางแผนที่จะทดลองใช้มาสก์ขนาดใหญ่ขึ้นภายในปี 2574 และเตรียมเทคโนโลยีให้พร้อมสำหรับการผลิตปริมาณมากภายในปี 2576 โดยได้รับความร่วมมือจากลูกค้ารายใหญ่ เช่น TSMC และซัมซุง รายงานผลประกอบการไตรมาสที่สองของปี 2569 ของอินเทลเผยรายได้ 16.1 พันล้านดอลลาร์สหรัฐ เพิ่มขึ้น 25% เมื่อเทียบกับปีก่อน แต่ธุรกิจโรงหล่อยังคงขาดทุนจากการดำเนินงาน 2.1 พันล้านดอลลาร์สหรัฐ โดยมีรายได้จากลูกค้าภายนอกเพียง 293 ล้านดอลลาร์สหรัฐต่อไตรมาส แม้ความสำเร็จครั้งนี้จะช่วยเพิ่มความเชื่อมั่นในการนำไฮ-นา อียูวีมาใช้ แต่อินเทลต้องพิสูจน์ว่าสามารถเปลี่ยนความก้าวหน้าทางการผลิตเป็นธุรกิจโรงหล่อภายนอกที่ทำกำไรได้ และเอเอสเอ็มแอลต้องเผชิญกับความท้าทายในการขยายการยอมรับจากลูกค้าในวงกว้างเมื่อเวลาผ่านไป
ASML Holding N.V.High-NA EUV production milestone and plans for broader adoption
Intel CorporationHigh-NA EUV milestone for Panther Lake processors on Intel 18A
Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. Ltd.
Samsung Electronics Co Ltd
Apple Inc.