Intel CorporationIntel achieves High NA EUV manufacturing milestone for 18A node and Ultra 3 processors, improving chip performance and efficiency.
อินเทลและ ASML บรรลุจุดสำคัญในการผลิตปริมาณสูงโดยใช้เทคโนโลยีลิโธกราฟี High NA EUV สำหรับโหนด Ultra 3 และ 18A ของอินเทล โดยให้ผลผลิตเทียบเท่ากับแพลตฟอร์มที่มีอยู่ โปรเซสเซอร์ Ultra 3 ที่สร้างด้วยกระบวนการนี้กำลังจัดส่งให้ลูกค้าแล้ว โดยมุ่งเป้าไปที่ชิปที่เล็กลง เร็วขึ้น และมีประสิทธิภาพมากขึ้น ในอีกด้านหนึ่ง อินเทลประกาศความร่วมมือกับอัลตราไลติกส์เพื่อเพิ่มประสิทธิภาพโมเดลคอมพิวเตอร์วิทัศน์ YOLO26 สำหรับชุดเครื่องมือ OpenVINO ของอินเทล โดยตั้งเป้าที่จะให้การอนุมาน AI แบบเรียลไทม์เร็วขึ้นสูงสุด 10 เท่า และต่ำกว่า 5 มิลลิวินาที บนฮาร์ดแวร์ของอินเทล สำหรับกรณีการใช้งานเอดจ์ในหลากหลายอุตสาหกรรม
Intel CorporationIntel achieves High NA EUV manufacturing milestone for 18A node and Ultra 3 processors, improving chip performance and efficiency.
ASML Holding N.V.ASML's High NA EUV lithography reaches high volume manufacturing milestone with Intel, demonstrating technology readiness.
Ultralytics collaborates with Intel to optimize YOLO26 for OpenVINO, achieving up to 10x faster inference on Intel hardware.