中国国産のDUVリソグラフィ装置がASMLの売上とマイクロンのメモリ供給見通しを脅かす

Product / TechCommodity Impact 4
โดย Reuters·元記事を読む
要約 · なぜ重要か

中国は国産の液浸深紫外線リソグラフィ装置の生産を開始し、政府支援の上海愛深納電子技術集団が中芯国際、華虹半導体、メモリメーカーの長鑫存儲技術への納入を計画していると、ロイターが7月28日に報じた。生産規模は小さく、2026年に約5台、2027年に約20台にとどまる見込みだ。このニュースはASMLホールディングに直接的な製品代替の打撃を与えた。輸出規制により最先端の極端紫外線装置の中国向け販売は既に阻止されており、DUVスキャナーが中国で入手可能な主要リソグラフィカテゴリーとなっている。ASMLは2025年の純売上高の29%、約95億ユーロを中国が占め、ロイター・ブレイキングビューズはこの収入がDUV装置とサービスに関連していると指摘した。生産認定を通過した国産装置は、将来のASMLスキャナーの特定の注文を代替し、中国のファブが依然としてASMLの性能を好むとしても、ASMLのサービスへの依存度を低下させる可能性がある。マイクロン・テクノロジーは、指名された競合企業と製造上のボトルネックを通じて関係している。装置の納入先の一つである長鑫存儲はDRAMで競合しており、もし現地で保守可能な液浸DUV装置によって、外国製装置への規制強化にもかかわらず長鑫存儲が信頼性の高い汎用メモリの生産を認定・追加できれば、その追加ビットが業界の価格とマイクロンの利益率を圧迫する可能性があり、これは新装置が既に最先端AIアクセラレータ向けの競争力のある高帯域幅メモリを生産できるという証拠ではなく、供給曲線上のリスクを意味する。

銘柄への影響 4

Semiconductors · 2 銘柄
ASML Holding N.V.
ASML
▼ ネガティブ競争関連度

Domestic DUV tools from Shanghai Aishengna could replace future ASML scanner orders and reduce service dependence in China, threatening 29% of ASML's 2025 sales.

Micron Technology Inc
MU
▼ ネガティブ供給関連度

CXMT, a DRAM competitor, may use domestic DUV tools to add commodity memory output, pressuring industry pricing and Micron's margins.

テーマインパクト 3

カバレッジ外企業 2

Shanghai Aishengna Electronic Technology Group非上場± 混在
関連度

长鑫存储技术(ChangXin Memory Technologies / CXMT)非上場± 混在
関連度

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