ASML Holding N.V.ASML's High NA EUV systems received commitments from TSMC and Samsung, boosting sales outlook.
ASMLホールディングは、台湾積体電路製造(TSMC)とサムスン電子が同社のHigh NA EUVリソグラフィシステムを採用すると表明したことを受け、時間外取引で2.91%上昇した。このシステムは1台あたり約4億ドル(約400億円)する。コストに慎重だったTSMCは2030年からこのシステムを使用し、サムスンはメモリ生産向けに2028年から使用を開始する。これにより、サムスンはインテルに加わることになる。ブルームバーグのデータによると、TSMCだけでASMLの売上高の約16%を占めている。また、両社はフォトマスクを6インチ規格から12インチ版に移行することでも合意した。ASMLの最高技術責任者マルコ・ピーターズ氏は、この変更によりHigh NAのスループットが40%向上する可能性があると述べた。TSMCとASMLは2031年までに12インチマスクの試験ラインを計画しており、2033年までにHigh NAツールでの生産使用を目指す。
ASML Holding N.V.ASML's High NA EUV systems received commitments from TSMC and Samsung, boosting sales outlook.
Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. Ltd.TSMC committed to use ASML's High NA EUV systems starting in 2030, and TSMC accounts for ~16% of ASML's revenue.
Intel Corporation
Samsung Electronics Co LtdSamsung committed to use ASML's High NA EUV systems for memory production starting in 2028, indicating strong demand.
Samsung Electronics Co LtdSamsung committed to use ASML's High NA EUV systems for memory production starting in 2028, indicating strong demand.