ASML Holding N.V.ASML announced commitments from Samsung, TSMC, and Intel for its High-NA EUV equipment, strengthening outlook.
ASML Holding ประกาศว่า Samsung Electronics, Taiwan Semiconductor Manufacturing และ Intel กำลังเดินหน้าใช้อุปกรณ์ lithography รุ่น High-NA extreme ultraviolet ล่าสุดของบริษัท ซึ่งช่วยเสริมแนวโน้มที่ดีสำหรับชิป AI รุ่นถัดไป Samsung วางแผนจะเริ่มใช้ระบบ High-NA สำหรับหน่วยความจำคอมพิวเตอร์ภายในปี 2028 ขณะที่ TSMC จะนำเทคโนโลยีนี้มาใช้ตั้งแต่ปี 2030 และ Intel Foundry ยังคงใช้เทคโนโลยีนี้ในการผลิตปริมาณมาก บริษัทเหล่านี้ยังร่วมมือกับ ASML ในการเปลี่ยนจากโฟโตมาสก์ขนาด 6 นิ้วเป็น 12 นิ้ว ซึ่งอาจช่วยเพิ่มผลผลิตและลดต้นทุน Marco Pieters ประธานเจ้าหน้าที่ฝ่ายเทคโนโลยีของ ASML กล่าวว่า มาสก์ขนาดใหญ่ขึ้นอาจเพิ่มปริมาณงานของเครื่อง High-NA ได้ถึง 40 เปอร์เซ็นต์ การนำเทคโนโลยีของ TSMC มาใช้มีความสำคัญเป็นพิเศษ เนื่องจาก TSMC คิดเป็นประมาณ 16 เปอร์เซ็นต์ของรายได้ของ ASML ตามข้อมูลของ Bloomberg
ASML Holding N.V.ASML announced commitments from Samsung, TSMC, and Intel for its High-NA EUV equipment, strengthening outlook.
Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. Ltd.TSMC will adopt High-NA technology from 2030, and its adoption is significant as it accounts for 16% of ASML's revenue.
Intel CorporationIntel Foundry continues to use High-NA systems in high-volume manufacturing, indicating ongoing adoption.
Samsung Electronics Co LtdSamsung plans to begin using High-NA systems for computer memory by 2028, committing to the new equipment.
Samsung Electronics Co LtdSamsung plans to begin using High-NA systems for computer memory by 2028, committing to the new equipment.