ASML Holding N.V.ASML's High-NA EUV is gaining adoption among major chipmakers, driving demand for its systems.
ASMLホールディングの次世代High-NA極端紫外線リソグラフィ技術が、主要な半導体メーカーの間で採用が進んでいる。インテルはすでに生産で使用しており、TSMCとサムスンも追随を準備している。この技術により、先端チップ上により小さく複雑な回路を印刷することが可能になり、AIプロセッサがより大型化・複雑化する中でますます重要になっている。インテルが最も先行しており、18Aプロセスの一部の層にHigh-NA EUVを採用している。一方、TSMCはこの10年後半に生産に導入する見込みで、サムスンもより広範な採用を準備している。ASMLは商業規模でEUVシステムを供給する唯一のメーカーであり、AI主導の半導体ブームにおいて独自の立場を築いている。現在の重要な課題は、TSMCとサムスンがHigh-NA EUVを試験から量産へと移行する速度である。
ASML Holding N.V.ASML's High-NA EUV is gaining adoption among major chipmakers, driving demand for its systems.
Intel CorporationIntel is using High-NA EUV in production for its 18A process, benefiting from ASML's technology.
Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. Ltd.TSMC is expected to bring High-NA EUV into production later this decade, improving its process capabilities.
Samsung Electronics Co LtdSamsung is preparing for wider adoption of High-NA EUV, which will enhance its advanced chip manufacturing.
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