ASML Holding N.V.ASML
▲ ポジティブ技術関連度
High-NA EUV production milestone and plans for broader adoption
IntelとASMLは、High-NA EUVリソグラフィを使用して100万枚以上のウェハを処理したと発表し、商業生産に向けた重要な一歩となった。この技術は、Intel 18Aで製造されるコードネームPanther LakeのIntel Core Ultraシリーズ3プロセッサの一部レイヤーに使用されており、両社は性能がNXEプラットフォームを使用してパターニングされた同等レイヤーを満たすか上回ると報告している。ASMLは2031年までに大型フォトマスクのパイロット運用を計画し、2033年までに量産対応技術を準備する予定で、TSMCやSamsungなどの主要顧客と協力している。Intelの2026年第2四半期報告では、売上高が161億ドルで前年比25%増となったが、ファウンドリ事業は依然として21億ドルの営業損失を計上し、外部顧客からの四半期売上高はわずか2億9300万ドルだった。このマイルストーンはHigh-NA採用への信頼を高めるが、Intelは製造の進展を収益性のある外部ファウンドリ事業に転換できることを証明する必要があり、ASMLは長期的に顧客採用を拡大するという課題に直面している。
ASML Holding N.V.High-NA EUV production milestone and plans for broader adoption
Intel CorporationHigh-NA EUV milestone for Panther Lake processors on Intel 18A
Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. Ltd.