Tekscend Photomask Corp.

Tekscend Photomask Corp.は、日本および海外で半導体用フォトマスクの開発、製造、販売を行っています。同社の製品には、バイナリ、位相シフト、EUV、ステンシルなどの半導体用フォトマスクのほか、3Dマスク（グレートーン/グレースケールマスク）などの用途向けフォトマスクがあります。また、ナノインプリント用のシリコンステンシルマスクおよびモールド（石英モールドやシリコンモールドを含む）を製造し、研究開発用のガラスマスクの開発・製造も行っています。同社は以前Toppan Photomask Co., Ltd.として知られていましたが、2024年10月にTekscend Photomask Corp.へ社名を変更しました。2021年に設立され、本社は日本の港区にあります。